加拿大28

  • 光刻机发展历程

    加拿大28第一二代均为接触接近式光刻机,曝光方式为接触接近式,使用光源分别为436nm的g-line 和365nm的i-line,接触式光刻机由于掩模与光刻胶直接接触,所以易受污染,而接近式光刻机由于气垫影响,成像精度不高。第三代为扫描投影式光刻机,利用光学透镜可以聚集衍射光提高成像质量将曝光方式创新为光学投影式光刻,以扫描的方式实现曝光,光源也改进为248nm的KrF激光,实现了跨越式发展,将最小工艺推进...

  • 光刻机制造为什么这么难?

    加拿大28光刻机的世界只存在赢者通吃。因为对于大多数厂商来说,一款新产品从投入到使用通常会耗费两三年 ,时间就是金钱,厂商们通常会优先选择先进的成熟的产品。除此之外,长周期投入以及高技术壁垒等都是很多新入局者难以逾越的高山。总结下来,主要有以下几点:技术上壁垒高ASML 总裁 Peter Wennink 也在媒体上方言:高端的 EUV 光刻机永远不可能(被中国)模仿。" 因为我们是系统集成商,我们...

  • 光刻机的作用原理

    芯片的制造包括沉积、光刻胶涂覆、曝光、显影、蚀刻、移植、剥离等工序,其中曝光是微芯片生产中的关键工序,ASML 正是处于半导体产业链中的曝光环节。光刻机的作用原理有点像投影仪,首先由光刻设备投射的光源通过带有图案的掩模投射出来,经过透镜或镜子将图案聚焦在晶圆(类似于投影幕布)上。不过投射之后形成的形状不是平面的而是立体的,通过蚀刻曝光或未受曝光的部分来形成沟槽,然后再进行沉积、蚀刻、掺杂,架构出不...

  • 国产光刻机现在是什么水平?

    加拿大28中国的芯片制造是中国科技界心中永远的伤痛。虽然现在我们可以独立制造出中低端的芯片,但对于高端芯片仍然无能为力,就因为我们没有制造高端芯片的光刻机!有人断言,EUV光刻机太先进了,如果我国未来5年可以买到,就能够保证至少10年的半导体产业发展,那中国将会成为难以压制的对手。然而,无奈的是,中芯国际多次向ASML提出购买光刻机设备,却因为美国的阻挠等种种原因,ASML久久未能交货。按照用途,光刻机可分...

  • 光刻机是个什么玩意?

    我们都知道华为的芯片大多由台积电代工,但是台积电的芯片生产机器——光刻机——产权和美国有着莫大的关系,即是说台积电很有可能迫于美国的压力断供华为芯片,而华为来自日本的芯片也极可能与美国有所关联。有人就问了,光刻机是个什么玩意?为什么它这么重要我们不能自己造?《中科院之声》一篇文章曾如此介绍光刻机:后工业时代包括现在的工业3.0、工业4.0,都以芯片为基础,光刻机作为制造芯片的工具,就相当于工业时代...

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